光刻機行業現狀

　　光刻機從2017年到2025年的複合年增長率將達到為15.8%。目前光刻工藝是IC製造中最關鍵也是最複雜步驟，光刻機是目前成本最高的半導體設備，光刻工藝也是製造中占用時間比最大的步驟。以下對光刻機行業現狀分析。

　　光刻機設備市場龍頭集中，EUV光刻機被ASML壟斷。全球光刻機出貨量99%集中在ASML，尼康和佳能。光刻機行業分析指出，其中ASML份額最高，達到67.3%，且壟斷了高端EUV光刻機市場。ASML技術先進離不開高投入，其研發費用率始終維持在15%-20%，遠高於Nikon和Canon。

　　光刻機廠商市場份額

　　光刻機用途廣泛，除了高端大氣上檔次的前道光刻機之外，還有用於LED製造領域投影光刻機和用於晶片封裝的後道光刻機，雖然在前道光刻機上國內廠商和ASML差距如同鴻溝，但後道光刻機和封裝光刻機國內廠商不僅都能製造，還占據了不低的市場份額。現從三大市場狀況來分析光刻機行業現狀。

　　上海微電子的90nm光刻機：目前我國能整機製造光刻機的只有上海微電子，2002年起家開始做這方面的研究，從零起步，目前其製造工藝已經能達到90nm，2018年時上海微電子產的光刻機已經完成驗收。光刻機行業現狀按照科技領域的研發情況，使用一代，研發一代，再預備一代，上海微電子基本上也是這個流程，搞定90nm工藝後，現階段已經完成了65nm工藝的研發和驗證，已經再準備後續28nm的工藝了。另有消息稱我國已經在加緊研製14nm的製造工藝，前期準備工作(相關技術)已經通過驗證和審核。

　　上海微電子只是系統製造商：雖然上海微電子能做光刻機整機設備，但並不意味著這家企業能自己獨立生產光刻機中的所有零配件，它只是一個系統製造商。光刻機行業現狀分析，想要製造一台完整的光刻機需要全球採購零配件，尤其是核心精密零部件更是依賴國外廠商，比如的光柵、德國鏡頭、瑞典軸承等等。當然，全球採購是目前光刻機廠商通用的做法，也是很無奈的做法，因為沒有任何一家企業有實力完成所有零配件的生產，能獨立完成光刻機的製造。荷蘭ASML也一樣全球採購然後生產製造。

　　提高光刻機技術核心是材料學：前面說了製造光刻機需要各種精密配件，上海微電子僅的光刻機就得幾萬的配件。光刻機行業現狀分析，想要提高我國光刻機的整體工藝水平，光靠上海微電子一家廠商是不行的，需要全國整體的製造業水平上去，能夠製造出我國自己的光柵、鏡頭、軸承、閥件等等。而想要製造出高質量的配件，最終又將歸結於材料學的研究，很多東西目前其實我們能造，但是使用的材料不過關，精度和質量達不到國外廠商的水準。因此，這就需要我國所有相關企業都能努力提高。

　　作為集成電路產業的核心裝備，有人稱光刻機為「人類最精密複雜的機器」。工件台系統是光刻機的重要子系統，工件台系統的運行速度、加速度、系統穩定性和系統的定位建立時間對光刻機的生產精度和效率起著至關重要的作用。本次「光刻機雙工件台系統樣機研發」項目驗收，標誌中國在雙工件台系統上取得技術突破，但這僅僅是實現光刻機國產化萬里長征的一部分，距離打破ASML的技術壟斷還有很長的路要走。